2012年5月我公司开始研制双面刷洗机。早期的湿法清洗不仅不能清除半导体晶片表面的亚微米粒子，而且对片子表面的破坏作用极为严重。而双面刷洗机对清除亚微米粒子非常有效，而且不破坏硅片表面，清洗效果最好。本公司已在2012年12月成功研制出该设备并顺利投入清洗市场。